「ムーアの法則」の限界を回避できる期待の製造技術「EUVリソグラフィ」とは? 「半導体集積回路の密度が2年ごとに倍増する」という半導体のイノベーションの成長速度を予測した「ムーアの法則」は、近いうちに終焉を

Totty-TottyTotty-Totty のブックマーク 2017/04/13 22:34

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「ムーアの法則」の限界を回避できる期待の製造技術「EUVリソグラフィ」とは?

    「半導体集積回路の密度が2年ごとに倍増する」という半導体のイノベーションの成長速度を予測した「ムーアの法則」は、近いうちに終焉を迎えると言われています。この法則を提唱したIntelの創業者の1人であるゴー...

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