仮に193nmのArF液侵で位相差等を駆使して回折によるボケを回避して7nmプロセスに成功してるとすると1桁波長が短いEUVがその光子の高エネルギー故の副作用でパターンが荒れる現象を起こさない分、優れてるという事にすら…

CruCru のブックマーク 2023/09/07 11:49

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