引火性危険物で冷却しないといけない露光機 EUVによる露光プロセスの推移 (1/3)

今回は毛色を変えて、EUV（Extreme UltraViolet：極端紫外線）を説明しよう。昨今EUVをどこまでモノにできるか、というのがファウンダリー各社の焦点になっているのはご存じのとおりで、IBMと提携して2nmプロセスでの製造に突き進む日本のRapidusも、なるべく急いでEUVプロセスを習熟する必要がある。 この話そのものは別にいまさらという内容ではあるのだが、3nmから先になるとそのEUVでもダブル・パターニングが必須になるといった状況に加え、ここにApplied MaterialsがSculptaと呼ばれる新しいシステムを発表したことで、いろいろと憶測が飛んでいる状況にある。 EUVの話はだいぶ昔（2014年）にしたが、これはまだEUVの量産が始まる以前の説明であり、もう量産機が大量に稼働している現在とはまた状況が違う。そんなわけで、今回はEUVによる露光プロセスを説明した

[giteki]

力技だなあ

[daishi_n]

基本的に副産物の水素は除去するのが化学工業系の基本なので充填しなきゃいけないのは危険すぎるな

[boxshiitake]

説明を読むだけでも難しい技術だ

[qpci32siekqd]

EUV、減価償却終わってもコスト高いままになるよな。日本、液浸ギリギリまでプロセス勧めてりゃまだ違ったのだろうか…。3D積層もコスト微妙だしどうなるやら

[tattyu]

どこに工場作るんだっけ？地震とかに弱そう。

[gogatsu26]

“LSIの製造手法”