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産総研、光集積回路と光ファイバを直接光結合する技術を開発
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産総研、光集積回路と光ファイバを直接光結合する技術を開発
産業技術総合研究所(産総研)ナノデバイスセンター 集積実証室 德島正敏 総括主幹、亀井明夫 主査、ナノ... 産業技術総合研究所(産総研)ナノデバイスセンター 集積実証室 德島正敏 総括主幹、亀井明夫 主査、ナノエレクトロニクス研究部門 堀川剛 主任研究員らの研究グループは、シリコンフォトニクスによる光集積回路(光IC)と光ファイバとの直接光結合技術の高度化を、NECの協力により達成したことを発表した。同成果の詳細は、応用物理学誌「Applied Physics Express」に2012年2月6日(日本時間10時)にオンライン掲載される予定。 スマートフォンなどの普及により大容量データが扱われる機会が増え、それらを伝送する光ファイバ通信網への負荷が増加。それに対応すつために、通信網の高密度化などが進められているが、光信号の制御装置(ノード装置)の数の増加などによる消費電力の増大が懸念されるようになってきている。この問題の解決に向け、ノード装置を低消費電力の光ICに置き換える技術の研究が活発化して