造れるのは世界でASML1社のみ、鍵を握るのはミラーレンズと光源

半導体デバイス微細化のカギとなるのが、波長13.5nmの極端紫外線（EUV）を使うEUV露光装置だ。フォトリソグラフィー工程において、フォトマスクのパターンをウエハー上に転写する露光を担う。7nm世代以降のロジック半導体や最先端メモリーの製造で不可欠な同装置は、世界でオランダASMLだけが供給している（図1）＊1。