IBMが5nmプロセスのチップ製造に成功、世界初のEUVリソグラフィ実用化へ

「半導体の集積密度は18カ月で2倍になる」という経験則の「ムーアの法則」が成り立たなくなっているとささやかれている半導体製造で、IBMが世界初の5nmプロセスのチップの開発に成功したと明らかにしました。5nmプロセスチップによって、省電力性能が劇的に向上すると期待されています。 IBM unveils world’s first 5nm chip | Ars Technica UK https://arstechnica.co.uk/gadgets/2017/06/ibm-5nm-chip/ IBMが開発に成功したのは、回路幅が5nmのプロセスルールで、世界初の「(Extreme ultraviolet lithography(EUV：極端紫外線リソグラフィ)」技術を用いて製造したもの。IBMには、半導体製造のGlobalFoundriesとSamsungが技術協力しています。 5nmプロ

[sisya]

トランジスタの写真が、細胞写真と見分けがつかない。全然別種の技術だが、印刷技術で生物を製造できてしまいそうな気になる。

[chintaro3]

2017年の記事

[endo_5501]

5nm!

[tanakh]

GFも5nm見えてきたかあ(´･_･`)