キヤノンが半導体露光装置を再加速、AIチップ実装独占しArFも諦めず

キヤノンの半導体露光装置事業がかつての勢いを取り戻している。ArF液浸露光装置やEUV（極端紫外線）露光装置を事業化できず、オランダASMLやニコンとの開発競争に敗れた同社。ところがここにきて、生成AI（人工知能）を支える先端パッケージング向けの市場を総取りしている。ナノインプリントリソグラフィー装置を発売し、微細化の最先端にも返り咲く（図1）。フルラインナップで王者ASMLに対抗しようと、かつて撤退したArFドライ露光装置も開発を続け再参入の機会をうかがう。 半導体露光装置の金額ベースの市場シェアは、経済産業省の資料によれば足元でASMLが9割強を占める。同社は台湾積体電路製造（TSMC）や韓国Samsung Electronics（サムスン電子）、米Intel（インテル）などの最先端工場に欠かせないEUV露光装置（波長13.5nm）市場を独占。露光波長別で1つ前の世代に当たるArF液浸

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「EUV露光装置の価格は200億～300億円、ArF液浸露光装置は60億～100億円ほど」「高額な最先端装置で独り勝ちしていることが金額面でASMLが圧倒的シェアを握る理由」