国が巨額支援の半導体企業 ＰＦＡＳ汚染源か/排水口から指針２．６倍/三重・四日市半導体の世界大手キオクシア工場の排水口から、国の暫定指針値の２・６倍もの有機フッ素化合物（ＰＦＡＳ）が検出されたことが大きな問題になっています。同工場は９２９億円の国の補助金を受けます。巨額の国費が投じられる半導体企業がＰＦＡＳの汚染源になっている可能性があります。（日隈広志） キオクシアは、「フラッシュメモリー」など情報記憶の半導体メモリーの売り上げで国内最大手。その主力の三重県四日市工場は、住宅地に隣接した丘陵部に東京ドーム１５個分の敷地を構え、生産量でも世界有数の半導体製造拠点です。 住民らでつくる「四日市公災害市民ネット」が昨年９月から１１月に市内の河川など２６カ所を調査した結果、キオクシア工場と河川をつなぐ排水口から、規制対象物質のＰＦＯＡとＰＦＯＳの合算値で１リットルあたり１２５・９３ナノグラムを検出。指針値の２・６倍になりました。また、キオクシアが排水を流している地下雨水管の
