知られざる半導体材料の巨人 「味の素」の牙城を狙う 米スタートアップの勝算
This US startup makes a crucial chip material and is taking on a Japanese giant 知られざる半導体材料の巨人 「味の素」の牙城を狙う 米スタートアップの勝算 半導体で使われる誘電体フィルム市場の90％以上を握る味の素。この牙城を狙って、米国のスタートアップが参入を計画している。AIブームで高まる需要と、米国で昨年成立した半導体・科学法（CHIPS法）が追い風だ。 by James O'Donnell2024.04.16 18 1つのコンピューター・チップに使われている複雑な部品のすべてを理解しようとするのは、めまいがするような試みだ。DNAのわずか数本分の太さしかないような銅線が織りなす道路を通じて、極めて小さな部品で作られた各層が相互に接続されている。それらの銅線の間には銅線同士が触れ合ってショートしないように
注目の素材「グラフェン」から初めて機能的な半導体を作り出すことに研究者らが成功
グラフェンは炭素原子が六角形に結合したハニカム構造をしたシートであり、鉄の数百倍もの強度を持ちながら非常に軽量で柔らかく、熱伝導性や導電性も高いという特性があります。そんなグラフェンを用いて世界で初めて機能的な半導体を作り出すことに、アメリカと中国の研究チームが成功しました。 Ultrahigh-mobility semiconducting epitaxial graphene on silicon carbide | Nature https://www.nature.com/articles/s41586-023-06811-0 Researchers Create First Functional Semiconductor Made From Graphene | Research https://research.gatech.edu/feature/researchers-c
グラフェンに勝る!? 新二次元材料でトランジスタ
グラフェンに勝る!? 新二次元材料でトランジスタ：LSIの低消費電力と高速動作を両立（1/2 ページ） 東京工業大学（東工大）の宮本恭幸教授らによる共同研究チームは、新しい二次元材料である二硫化ハフニウムを用いたMOSトランジスタを開発した。二硫化ハフニウムが、電子デバイスを高速かつ低消費電力で動作させることが可能な新材料であることを示した。 東京工業大学（東工大）工学院電気電子系の宮本恭幸教授らと理化学研究所、岡山大学による共同研究チームは2016年4月、新しい二次元材料である二硫化ハフニウム（HfS2）を用いたMOSトランジスタを開発したと発表した。HfS2は、従来の二次元材料に比べて、電子デバイスを高速かつ低消費電力で動作させることが可能な新材料であることを示した。 二硫化ハフニウム HfS2は、遷移金属ダイカルコゲナイドと呼ばれる二次元結晶群に属する材料である。理論計算値では、単原
グラフェン超える2D材料群、“ポストSi”に名乗り
原子1～3層の厚みしかない事実上の“2次元（2D）材料”を組み合わせることで、桁違いの性能を持つデバイスが続々と登場する可能性が出てきた。例えば、フレキシブルで羽衣のように薄い超高性能マイクロプロセッサーやセンサー、大面積で超高効率のLEDや太陽電池などである。 2D材料の代表先駆けであるグラフェンは、数多くの優れた特性を持つことから夢の材料といわれてきた注1）。しかし、1点だけ大きな課題があった。バンドギャップがほぼ0だったことである。電極材料やアナログ素子向けには使えるが、論理回路向けには利用が難しかったわけだ。 注1）例えば、グラフェンの理論的なキャリア移動度は100万cm2/Vsと非常に高く、しかも電気伝導率は銅（Cu）の約100倍で、熱伝導率や機械的強度はダイヤモンド並みに高いといった点である。
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ウクライナ侵攻が半導体生産に影 原材料不足の懸念 - 日本経済新聞
TechCrunch
