ムーアの法則の限界へ…IBMが7nmで世界最強チップの開発に成功2年後には大活躍！ コンピューターやモバイルデバイスの高性能化のカギを握っている半導体チップ。現在実用化されている最小シリコントランジスタには14nmプロセスの製造技術が用いられています。そして、まもなく次なる10nmプロセスの実用化によって、さらなるチップの高速化が目指されているというのが現状なのですが……。 このほどIBMは、そのグンと先をいく7nmプロセスでのチップ製造開発に成功したことを明らかにしましたよ。成功の秘密の1つに、従来のシリコンのみを用いる製造プロセスではなく、シリコンゲルマニウム（SiGe）素材の活用があげられています。まだ研究開発段階ですけど、この新たなSiGeによる7nmプロセスによって誕生したチップは、現時点で世界でもっともパワフルなチップと比較しても、その4倍以上の高速性能を誇るんだとか！ IBMは新7nmプロセスで製造される半導体チップの供給を、2017年中
