表面加工の微細化 180nm → 32nm(原子約300個分) (KrFソリグラフィ) → (ArF液浸ダブルパターニング ソリグラフィ) ※nmはナノメートル、10-9メートル=10億分の1メートル 私たちの身の回りには、コンピューター(半導体集積回路)が内蔵された製品があふれています。生活をより便利にサポートしてくれるこれら家電やIT機器は、常に高性能化を求められています。コンピューターの高性能化は、心臓部のマイクロチップ(半導体集積回路)の微細化とほぼ同義です。微細化には、より細い配線を半導体内部に作る必要があり、そのためには超極細の溝を刻む、「フォトリソグラフィ」という技術が欠かせません。そして、フォトリソグラフィの技術の要となるのがレーザー光源です。フォトリソグラフィ用のレーザー光源の開発競争で勝ち残ったメーカーは、世界でたったの2社。その一つが、日本のギガフォトン社です。 IT